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アイテム / 高誘電率Ta2O5膜のシリコン半導体メモリ用容量絶縁膜への適用に関する研究 / Shinriki-Hiroshi-1
Shinriki-Hiroshi-1
ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2017-01-20 | |||||
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ファイル名 | Shinriki-Hiroshi-1.pdf | |||||
本文URL | https://nihon-u.repo.nii.ac.jp/record/2000924/files/Shinriki-Hiroshi-1.pdf | |||||
ラベル | 論文の内容の要旨 | |||||
オブジェクトタイプ | abstract | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 302.7 KB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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